삼성SDI, 포토레지스트 개발 시작…“반도체 핵심 소재 국산화 속도↑ 기대”

삼성SDI, 포토레지스트 개발 시작…“반도체 핵심 소재 국산화 속도↑ 기대”

  • 기자명 김수호
  • 입력 2021.06.22 16:46
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[더퍼블릭=김수호 기자] 일본 업체들이 반도체 초미세 공정의 핵심 소재 시장에서 80%가 넘는 점유율을 차지하고 있는 가운데 삼성SDI가 핵심 소재 개발에 착수했다.

최근 업계에 따르면 삼성SDI는 반도체 제작 핵심 소재인 포토레지스트(PR) 개발을 시작했다.

포토레지스트는 반도체 제조에 있어 필수적인 소재로, 빛(자외선)을 비추면 일어나는 화학적 변화를 통해 회로를 그려내는 노광 공정에 사용된다.

개발은 전자재료사업부에서 담당하며, 이를 위해 8인치 웨이퍼 노광과 트랙 장비 등도 갖췄다.

포토레지스트 관련 연구팀은 김상균 전자개발실장의 주도로 경력 공채를 통해 전문가를 영입하는 등 재정비한 것으로 전해졌다.

앞서 삼성전자를 비롯한 국내 기업들은 국내에 EUV(극자외선)용 포토레지스트를 만드는 업체가 없어 일본 기업에 의존해왔다. EUV는 초미세 공정에 특화된 반도체 장비다.

하지만 지난 2019년 7월 일본 아베 정부가 한국에 반도체·디스플레이 핵심 소재 포토레지스트·고순도 불화수소·플루오린 폴리이미드 등에 대한 수출 규제를 강화하면서 정부와 업계가 소재·부품 등의 공급망 안정화와 사업화에 본격적으로 나서게 된 것이다.

산업통상지원부는 지난 1월 ‘소부장 기업현장 보고서’를 통해 업계가 이룬 성과들을 발표했다.

EUV용 포토레지스트는 유럽 제품으로 수입처 다변화에 나섰고, 미국 듀폰과 일본 TOK로부터 투자를 유치했다.

불화폴리이미드는 코오롱인더스트리가 양산 설비를 구축해 중국에 수출하고 있으며, 국내 화학 소재 전문업체 솔브레인은 12N급 고순도 불산액 생산공장 규모를 2배 확대해 생산을 개시했다.

산업부는 “2019년 추경과 2020년 예산을 합해 약 2조원을 투입하며 100대 품목에 대한 기술 개발을 추진했고 현재까지 85개 품목에 대한 기술 개발을 진행하고 있다”고 밝혔다.

이 때문에 업계에서는 삼성SDI가 포토레지스트 개발하면 일본산 소재 의존도를 줄이는 것과 동시에 핵심 소재 국산화에도 속도가 날 것으로 기대하고 있다.

삼성SDI는 아직 개발완료가 예상되는 시점에 대해서는 언급하지 않았으며, 개발이 완료되면 삼성전자뿐만 아니라 여러 반도체 기업들에도 공급하는 것을 염두에 두고 있다.

업계 관계자는 “삼성전자가 반도체 장비 국산화를 위해 핵심 소재 개발에 본격적으로 나서고 있다”며 “정부의 지원 아래 긍정적인 결과가 나올 것으로 기대한다”고 말했다.

[사진 제공=연합뉴스]

더퍼블릭 / 김수호 기자 shhaha0116@daum.net 

더퍼블릭 / 김수호 shhaha0116@daum.net

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